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無掩膜直寫光刻

    無掩膜直寫光刻是指利用光學復制的方法把圖形印制在光敏記錄材料上,然后通過刻蝕的方法將圖形轉移到晶圓片上來制作電子電路的技術。其中光刻系統被稱為光刻機,帶有圖形的石英板稱為掩膜,光敏記錄材料被稱為光刻膠或抗蝕劑。無掩膜直寫光刻設備技術是從傳統光學光刻技術衍生出的一種新技術,因為其曝光成像的方式與傳統投影光刻基本相似,區別在于使用數字DMD代替傳統的掩膜,其主要原理是通過計算機將所需的光刻圖案通過軟件輸入到DMD芯片中,并根據圖像中的黑白像素的分布來改變DMD芯片微鏡的轉角,并通過準直光源照射到DMD芯片上形成與所需圖形一致的光圖像投射到基片表面,并通過控制樣品臺的移動實現大面積的微結構制備。

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