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無框架反射鏡鏡架
品牌:西格瑪光機
產地:日本
產品簡介:
無框架反射鏡鏡架沒有沒有反射鏡支架的邊框,支架正面全部成為反射鏡,由于基板為精密拋光的熱膨脹系數小的陶瓷(或是合成石英),能夠得到極高的面型精度和溫度穩定性,而且它適用于YAG激光各種波長譜區的系列產品,這個產品可以保證鍍膜后(支架狀態)的面型精度。
無框架反射鏡鏡架
無框架反射鏡鏡架是在精密拋光的陶瓷上鍍膜,與一般反射鏡的特性相比沒有差異,它限度地擴大反射鏡的有效面積,而且,它還具有結構緊密的反射鏡調整機構和高激光損傷閥值,強激光也可以使用。
產品簡介:
無框架反射鏡鏡架沒有沒有反射鏡支架的邊框,支架正面全部成為反射鏡,由于基板為精密拋光的熱膨脹系數小的陶瓷(或是合成石英),能夠得到極高的面型精度和溫度穩定性,而且它適用于YAG激光各種波長譜區的系列產品,這個產品可以保證鍍膜后(支架狀態)的面型精度。
產品外形圖:
反射率波長特性(參考數據)
功能說明圖:
技術指標:
適用波長 | 355nm |
反射鏡部形狀 | 24.4×24.4×7mm |
鍍膜范圍 | 23×23mm |
面型精度保證范圍 | φ20mm |
激光損傷閥值* | 8J/cm2 |
※激光脈沖時間10ns,重復頻率20Hz
通用指標:
支架部分
類型 | GMMUHP-24.4 | GMMUHP49 |
可動軸數 | 3軸 | 2軸 |
調整范圍擺動 | ±3° | ±2° |
調整范圍旋轉 | ±3° | ±2° |
分辨率擺動 | 0.74°/周 | 0.26°/周 |
分辨率旋轉 | 0.74°/周 | 0.26°/周 |
主要材質 | 黃銅 | 鋁合金 |
表面處理 | 超級黑鉻 | 黑色陽極氧化 |
質量 | 0.04kg | 0.16kg |
注意:
1.激光等的直線偏振光射入分光鏡時,反射率或透過率隨偏振方位發生變化。需要嚴格地調整分束比為1:1時,請45度傾斜偏振光方位或使用圓偏 光。
2.技術指標的反射率是用P偏光和S偏光的反射率的平均值來表示的。
3.多層電解質膜的反射率波長特性隨入射光束的偏光狀態變化。P偏光與S偏光相比,反射率變低,反射帶譜區變窄。
4.無框架反射鏡鏡架中不附有保證面型精度數據。需要保證面型精度數據文件時,需要額外文件制作費用。更多信息請咨詢。